名 称： 三氟化氮
CAS号： 7783-54-2
纯 度： ≥99.999%（5N）/ ≥99.9999%（6N）
分子式： NF₃
规 格：规格均可定制
简介：
是微电子行业核心的电子特种气体，主要用于芯片制造的腔室清洗与材料蚀刻，同时是强氧化性、强温室效应的有毒高压气体。
主要用途包括：
半导体行业： 主要用于CVD 腔室清洗，等离子态清洗硅片、反应腔，无残留、效率高；对于芯片蚀刻领域，蚀刻对硅、氮化硅有高蚀刻速率与选择性，用于先进制程芯片
平板显示与光伏：面板、太阳能电池制造的清洗与蚀刻
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三氟化氮
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